与其他权利的三点关键区别：
一是权利产生方式——布图设计专有权须经登记才产生，这与著作权自创作完成即自动产生不同；
二是审查方式——登记不对创造性作实质审查；
三是保护对象——保护的是集成电路中至少一个有源元件的两个以上元件和部分或全部互连线路的三维配置或者为制造集成电路而准备的上述配置本身，而发明专利保护的是技术方案。
集成电路布图设计保护期为十年，自登记申请之日或首次在世界任何地方投入商业利用之日起计算，以较早者为准；但无论是否登记、是否投入商业利用，自创作完成之日起满十五年后不再受保护。
