通常需要的文件包括登记申请表、布图设计的复制件或图样，已投入商业利用的还需提交含该布图设计的集成电路样品。两个时间要点必须注意：
一是布图设计自首次投入商业利用之日起满两年未申请登记的，不再受理，因此对已流片并出货的产品，登记时点是硬约束；
二是登记后予以公告，登记公告仅涉及著录事项、不公开版图内容本身；对申请日前未商业利用的布图设计，可就不超过总面积50%的部分标注保密信息单独封存。外国申请人办理登记须委托中国境内依法设立的代理机构。
实务建议：将布图设计登记纳入流片流程的固定节点，与专利申请、商业秘密管理同步安排，避免因错过两年期限而完全丧失该项权利。
