三个实务难点：
一是举证——需通过芯片剖片、版图提取与比对完成同一性或实质相似性认定，通常依赖专业技术鉴定，成本与周期高于一般侵权案件，证据固定应尽早启动；
二是抗辩空间较大——为评价、分析、研究、教学目的复制受保护的布图设计，以及在此基础上进行评价、分析后独立创作出的原创性布图设计（即反向工程路径），依法不视为侵权，因此权利人需重点证明被诉方并非独立创作；
三是善意第三人——善意投入商业利用的，在得到明确通知之前不视为侵权；得到含非法复制布图设计的明确通知后，仍可以继续将现有存货或此前订货投入商业利用，但应当向权利人支付合理的报酬。
